半導体・エレクトロニクス
ＩＣチップの生産には非常に特殊な装置が必要でさまざまな環境でおこなわれます。
- 真空プラズマ
- 高温
- 磨耗性（酸化）の高い溶液との接触
- 非常に反応性の高い薬品
三菱ケミカルアドバンスドマテリアルズはクリーンな環境が厳格に要求されるシリコンウエハーの製造において使用できる材料を開発し、石英やセラミックなど従来の材料に対し低コストな方法を提供しています。また当社は、シリコンウエハー製造の各工程に使用できる材料を設計しています。
利点
- 同品質の製品が世界中どこでも入手可能（Copy Exactly）
- 豊富な製品、技術サポート、試験データ
- 機械加工によって迅速な新規用途開発をサポート
- ウェットプロセス用に特化して設計された豊富な製品ポートフォリオ
- 業界のスタンダードであるテクトロンＰＰＳなどＣＭＰリング向けの製品
- エッジング、CVD及びイオンプラントいったドライプロセス用に設計された材料はコストパフォーマンスを発揮
製品及び用途
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